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CMP后清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述:v該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專(zhuān)用清洗設(shè)備,有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線(xiàn)式等不同結(jié)構(gòu),以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景,其中連線(xiàn)式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號(hào)

廠商性質(zhì)

代理商

更新時(shí)間

2024-10-22

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產(chǎn)品分類(lèi)

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詳細(xì)介紹

v 該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專(zhuān)用清洗設(shè)備,有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線(xiàn)式等不同結(jié)構(gòu),以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景,其中連線(xiàn)式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面積小,濕進(jìn)干出,適用于各類(lèi)CMP后晶圓的清洗

v 通過(guò)更換夾具,可兼容4-12英寸晶圓

v PLC系統(tǒng),觸摸屏控制,一鍵式自動(dòng)完成刷洗清洗加工,其中連線(xiàn)式設(shè)備配有全自動(dòng)上下片系統(tǒng),cassette to cassette使用更加方便


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